Thermal activation and cathodoluminescence measurements of Tb 3+-doped a-(SiC)1-x(AlN)x thin films

O. Erlenbach, G. Gálvez, J. A. Guerra, F. De Zela, R. Weingärtner, A. Winnacker

Producción científica: Capítulo del libro/informe/acta de congresoContribución a la conferenciarevisión exhaustiva

2 Citas (Scopus)

Resumen

We produce amorphous terbium doped wide bandgap semiconductor thin films of the pseudobinary compound (SiC)1-x(AlN)x by rf triple magnetron sputtering. Cathodoluminescence measurements performed at samples having different compositions x show pronounced intra 4f shell transition peaks of the trivalent terbium. Thermal activation of the terbium emission by isochronal annealing of the films leads to a strong increase in emission intensity.

Idioma originalInglés
Título de la publicación alojadaSilicon Carbide and Related Materials 2009
Subtítulo de la publicación alojadaICSCRM 2009
EditorialTrans Tech Publications Ltd
Páginas459-462
Número de páginas4
ISBN (versión impresa)0878492798, 9780878492794
DOI
EstadoPublicada - 2010
Evento13th International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2009, ICSCRM 2009 - Nurnberg, Alemania
Duración: 11 oct. 200916 oct. 2009

Serie de la publicación

NombreMaterials Science Forum
Volumen645-648
ISSN (versión impresa)0255-5476
ISSN (versión digital)1662-9752

Conferencia

Conferencia13th International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2009, ICSCRM 2009
País/TerritorioAlemania
CiudadNurnberg
Período11/10/0916/10/09

Huella

Profundice en los temas de investigación de 'Thermal activation and cathodoluminescence measurements of Tb 3+-doped a-(SiC)1-x(AlN)x thin films'. En conjunto forman una huella única.

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