Influence of the substrate bias on the stress in Ti-DLC films deposited by dc magnetron sputtering

S. Ponce, N. Z. Calderon, J. L. Ampuero, A. La Rosa-Toro, A. Talledo, W. Gacitúa, B. R. Pujada

Producción científica: Contribución a una revistaArtículo de la conferenciarevisión exhaustiva

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Huella

Profundice en los temas de investigación de 'Influence of the substrate bias on the stress in Ti-DLC films deposited by dc magnetron sputtering'. En conjunto forman una huella única.

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