Caracterización de películas delgadas de a-SiC, y a-SiC:H mediante pulverización catódica de radiofrecuencia reactiva

Acronym

P_MARKOV-SPH

Consortium Coordinator

Weingärtner, Roland

Start Date

January 1, 2012

End Date

November 1, 2012

Status

https://purl.org/pe-repo/concytec/estadoProyecto#concluido

Description

Las películas mono-cristalinas semiconductoras de materiales con un amplio ancho de banda como carburo de silicio (c-SiC) o nitruro de aluminio (c-AlN) son de creciente interés en investigación y desarrollo para aplicaciones ópticas [Steckel]. Esto se debe principalmente a sus extraordinarias propiedades, como son su alto voltaje de ruptura y conductividad térmica, en contraste con los semiconductores usuales como GaAs y Si. Así mismo, un amplio ancho de banda permite la transmisión en todo el rango visible, lo cual es la base para aplicaciones optoelectrónicas. Las contrapartes amorfas (a-SiN y a-AlN) tienen la ventaja de ser producidas de manera simple y menos costosa que las cristalinas, sin la desventaja de perder importantes propiedades propias de los cristales. Adicionalmente, hay aspectos que difieren del caso cristalino. Por ejemplo, el control del dopaje para manipular sus propiedades ópticas y eléctricas a través de la saturación de en laces libres con hidrogeno en un proceso de deposición reactivo, u oxígeno en un proceso de saturación por difusión ex situ. En este proyecto se producirán películas delgadas de carburo de silicio hidrogenado (a-SiC:H) por pulverización catódica de radiofrecuencia reactiva. Y se analizará su estabilidad ante la exposición del medio ambiente. La caracterización óptica se realizará a partir de medidas espectroscópicas de transmisión en el rango ultravioleta y visible (espectroscopia UV-VIS) y en el infrarojo (espectroscopia FTIR). El ancho de banda se investigará en función de tratamiento térmico, concentración de hidrogeno y de oxígeno. Así mismo se investigarán las propiedades eléctricas a través de espectroscopia de impedancia.

Keywords

Procesos de Markov

;

Metastabilidad

;

Grafos aleatorios

;

Límites de escala

Área de conocimiento

Humanities

Campo OCDE

https://purl.org/pe-repo/ocde/ford#6.04.06